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Deposition of copper in the pr...
Itens
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Deposition of copper in the presence of hydrogen.
Detalhes bibliográficos
Autor principal:
Konecni, Anthony J.
Autor Corporativo:
Rensselaer Polytechnic Institute. Department of Materials Engineering
Formato:
Tese
Livro
Idioma:
English
Publicado em:
1992.
Itens
Descrição
Registro fonte
RPI
Detalhes do Exemplar RPI
Área/Cota:
1992
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